全社一体となった品質管理で信頼されるものづくりを支えています。
熟練した技術と高精度な設備でお客様の安心と満足を実現します。
表面観察・分析 | ||
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EDS搭載走査型電子顕微鏡 (SEM-EDS) |
SEM:VE-9800 KEYENCE社製 EDS:INCA x-act Oxford Instruments社製 |
表面・断面観察(倍率、~X5k) ※特に被膜中に混入した異物特定 |
FEタイプ電子線マイクロアナライザ (EPMA) |
EPMA-8050G ㈱島津製作所製 | 表面・断面観察(倍率、~X50k) ※被膜中の微量成分分析 |
デジタルマイクロスコープ | VHX-5000 KEYENCE社製 | 表面・断面観察(倍率、~X2k) |
走査型共焦点レーザー顕微鏡 | OLS4000 OLYMPUS社製 | 表面・断面観察(倍率、~X2k) 表面粗さ評価 |
SPM (AFM&MFMモード) | SPM-9700 ㈱島津製作所製 | 表面状態・形態観察 |
ダイナミック微小硬度計 | DUH-211 ㈱島津製作所製 | 薄膜メッキ被膜の表面硬度測定 |
表面粗さ計 | SURFCOM 130A TOKYO SEIMITSU製 | 表面粗さ評価 |
接触角計 | Drop Master DM-301 協和界面科学㈱製 | 表面の接触角測定(濡れ性評価) |
組成分析 | ||
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ICP発光分光分析装置 | ICPE9000 ㈱島津製作所製 | メッキ液中の金属濃度管理、 メッキ被膜中の微量元素測定 |
原子吸光分析装置 (AAS) |
iCE3000 Thermo Fisher Scientific製 |
メッキ液中の金属濃度管理、 メッキ被膜中の微量元素測定 |
キャピラリー電気泳動システム (CE) |
Agilent7100 Agilent Technologies製 |
メッキ液中の無機酸や有機酸、金属の濃度測定 |
紫外可視分光光度計 | UV2600 ㈱島津製作所製 | メッキ液中の錯化剤や添加剤の濃度測定 |
構造解析 | ||
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X線回折装置 (XRD) |
XRD-7000 (X-RAY DIFFRACTOMRTER) ㈱島津製作所製 |
メッキ被膜の結晶構造解析、 定性分析(合金比率) |
フーリエ変換赤外分光光度計 (FT-IR(ATR)) |
Affinity+MIRacle ㈱島津製作所製 |
素材管理、メッキ前処理評価 |
膜厚測定 | ||
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蛍光X線分析装置 (XRF) |
FT110A ㈱日立ハイテクサイエンス製 |
メッキ被膜の膜厚測定、定性分析 |
各種試験機 | ||
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恒温恒湿試験機 | ARS-0390-J エスペック㈱製 | メッキ製品の環境試験 |
振動試料型磁力計(VSM) | PV-300-5 ㈱東栄科学産業製 | メッキ被膜の磁気特性評価 |
電磁波シールド効果測定システム |
JSE-KEC ㈱テクノサイエンスジャパン製 |
メッキ被膜や材料の電磁波シールド効果測定 |
電気化学測定システム | HZ5000 北斗電工㈱製 | メッキ被膜の耐食性評価 |
小型卓上試験機 | EZ-LX ㈱島津製作所製 | 皮膜の引張や圧縮、曲げ、剥離などの試験 |
その他 | ||
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クロスセクションポリッシャー | IB-09020CP 日本電子㈱製 | サンプルの精密断面研磨 |
レーザー回折式粒度分布測定装置 | SALD-2300 ㈱島津製作所製 | メッキ液中の粒子径(50nm~2㎜)の測定 |
各種膜厚計 | 電解式膜厚計、電磁式膜厚計 |
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各種試験機 | 塩水噴霧試験機、キャス試験機、衝撃試験機、荷重試験機、低抵抗率計、 高抵抗率計、 色差計、光沢度計 |
各種分析機器 | 電位差自動滴定装置、高速液体クロマトグラフィー |
特殊用途装置 | 磁気探傷装置、音叉式振動式粘度計、回転式粘度計 |
※弊社において分析に必要な装置を保有していない場合でも、近隣の公設試験機関の分析装置を利用し評価・分析を行っています。(埼玉県産業技術総合センター、東京都立産業技術研究センター、神奈川県立産業技術総合研究所など)
ショットキーエミッタを搭載しており、走査型電子顕微鏡(SEM)に比べてはるかに細く絞った電子線を試料表面に照射できるため、より鮮明な表面観察が可能です。また、本装置は波長分散型X線分光器(WDS:Wavelength Dispersive Spectrometer)を用いているため、エネルギー分散型X線分析装置(EDS)と比較して高精度、高分解能での元素分析を行えます。
EPMAは、光学レンズとカメラを組み合わせた顕微鏡です。あらゆる角度から非破壊で観察できます。高倍率においてもフルフォーカスで画像を取得し、そのまま3D計測を実行できます。
試料の検査・測定を非接触で実行できる3D測定レーザー顕微鏡です。正確な測定性能に加えて、非接触表面粗さ測定機として従来の粗さ測定機では不可能だった複雑な微細形状を有する被測定物の測定が可能です。
走査電子顕微鏡(SEM)は、細く絞った電子線を試料表面のXY方向に二次元走査し、発生する様々な信号を用いて表面構造の観察する装置です。さらに、搭載されたエネルギー分散型X線分析装置(EDS)により、電子線で励起した特性X線を検出し、含有元素、およびその組成比を特定します。サンプルの微小部分の点分析、線分析、面分析(マッピング)が可能です。
原子間力顕微鏡は、プローブと試料表面の間に作用する原子間力(引力・斥力)をカンチレバーのたわみとして検知することで被測定物の微小領域(数ナノレベル)での表面形態を観察する装置です。SEMとは異なり、測定室を真空雰囲気にすることなく、原子レベルで観察できる唯一の方法です。
従来の表面硬度計が採用していた押し込み深さによる表面硬度測定ではなく、インデントした際の荷重-変位曲線を求めることで精度の高い表面硬度を測定します。このため、従来の方法では測定できなかった非常に薄い膜の硬度測定や、試験片の弾性率を測定できます。
誘導結合プラズマを用いて元素固有の輝線スペクトルを発生させ、そのスペクトルの強度を測定することで、被測定物やメッキ液中に微量(数ppb程度)に含まれている元素の定性、定量を実行します。他元素と同時に分析することも可能です。また、EDSや原子吸光分析装置(AAS)などでは難しかった、P(リン)やB(ホウ素)といった軽元素の定量分析を実施できます。
緩衝液を満たしたキャピラリー(内径100μm以下)の両端に高電圧を印加し電気泳動させることで、試料成分を陽イオンと陰イオンに分離して分析します。移動速度は、試料成分の特性(荷電、大きさ、形)の差で決まります。検出されるまでの時間や、ピークの高さ・面積、吸光スペクトルを利用して、各成分の精密な定性・定量が可能です。
試料に入射光を照射し、透過した光束の強度を測定することで、液体試料中の金属錯体を定量分析します。また固体試料に関しては、透過スペクトルおよび反射スペクトルを測定できるため、各種特性の評価が可能です。さらに、オプションの積分球付属装置(ISR-2600Plus)を使用することで、220n~1400nmの波長範囲での測定が可能になります。
金属製品を構成している金属の結晶構造を、大気雰囲気下にて非破壊で分析できます。例えば、物質の定性分析や格子状数の決定、メッキ皮膜の応力測定などを実行できます。さらに、ピークの角度広がりやプロファイルなどから粒子径・結晶化度・精密X線構造解析などの様々な分析が可能です。
KECが開発した電磁波シールド効果測定装置です。電磁波が発生した場所から近いところ(近傍界)のシールド効果を、電界と磁界に分けて評価することが可能です。
KEC法では送信用治具と受信用治具を使います。これらの間に測定試料(シールド材)を入れて、受信側でどれだけ信号が減衰したかを、入れない場合と比較することで評価します。シート状の材料であれば比較的容易に電磁波シールド効果を測定評価できます。
周波数レンジは、100kHz から1GHz まで。試料サイズは、13cm~15cm(1mm、2mm、3mmの厚さに対応)。
基板上に形成した磁性膜および磁性膜素子の磁気特性を測定する装置です。縦軸は、圧電素子で試料を加振して検出コイルで測定した磁化を、横軸はヘルムホルツコイルでスイープさせた磁場をとり、磁化曲線を得ます。
試料にレーザー光を照射すると空間的に回折/散乱光の光強度分布パターンが生じます。光強度分布パターンは粒子の大きさに依存して変化するため、光強度分布パターンからサンプル中の粒子の大きさの分布を理論的に計算できます。